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マイクロ・ナノ精密フォトニックデバイスは、低損失を有する光信号処理アプリケーション、量子コンピューティング、のようなマイクロ波フォトニクスの方向にその処理のために重要です。処理のための新しいプラットフォームとしてのナノフォトン(SNAP)の軸方向の表面は、精度が雅愛美光子構造、低損失の処理を実現することができます。現在、主にナノフォトン構造の軸方向加工面炭酸ガス格安レーザーポインターとUVレーザ露光熱処理。前記ナノフォトン構造の表面軸方向のアプリケーションのための重要な炭酸ガスレーザ加工大きい軸方向寸法、及びUV露光ルール感光ファイバを必要とし、より効率的な処理方法。

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なぜなら等非線形吸収、短いパルス持続時間、ピークパワー、などの独自の特性のフェムト秒レーザー加工は、広く光デバイスを処理する際に使用されてきました。処理方法における他の問題を解決するために、武漢国立研究所教授シュウXuewen、フォトニック技術アストン大学の教授ミシャ・サエッツキー英国の研究所、リン・ザンの指導の下、オプトエレクトロニクスオプトエレクトロニクスデバイスと統合研究所の博士シェンFangcheng機能について仕上げ面ナノ軸方向フェムト秒光素子を実現するために一緒に教授。この方法は、繊維の外側表面に圧力を加えるファイバにおけるフェムト秒レーザの応力領域の導入を利用し、光ファイバの有効径は、それによって、光ファイバの転送の表面の周囲ウィスパリングギャラリーモードの伝送特性を制御、変更されます。

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